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Resist 표면 거칠기 예측을 위한 전자빔 리소그라피 시뮬레이션에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2002 .06
삼층감광막구조를 이용한 미세패턴의 전자빔 묘화 ( Submicron Patterning in Electron Beam Lithography using Trilayer Resist )
전자공학회논문지-A
1994 .10
저에너지 전자빔 리소그라피 공정용 소형 전자빔 칼럼 개발
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2011 .10
저에너지 전자빔 리소그라피의 Contrast 특성 분석
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2012 .05
A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .10
집속이온빔 리소그라피(Focused Ion Beam Lithography)의 노출 및 현상에 대한 몬테칼로 전산 모사
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .07
전자빔 리토그래피에서 몬테카를로와 현상시뮬레이션을 이용한 3차원 리지스트프로파일 시뮬레이션 ( 3-D Resist Profile Simulation using monte-Carlo & Develop Simulation on E-beam Lithography )
대한전자공학회 학술대회
1994 .11
Current Status and Future of Electron Beam Lithography
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
두꺼운 감광막의 노광 파장에 따른 측면 기울기에 관한 연구
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2003 .01
전자빔 리토그라피에서 스트링모델을 이용한 3차원 리지스트 프로파일 시뮬레이션 ( 3-D Resist Profile Simulation using String Model on E-beam Lithography )
전자공학회논문지-A
1996 .06
Simulation and Edge Profiles of Chemically Amplified Resists with Highly Contrast in the Deep Submicron Range by using the Electron Beam lithography
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
E-Beam Lithography 기술
전자공학회잡지
1984 .10
전자빔 리토그리피에서 몬테카를로와 현상시뮬레이션을 이용한 3차원 리지스트 프로파일 시뮬레이션
대한전자공학회 학술대회
1994 .11
전자빔 가공장비용 소형 전자빔칼럼개발
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2011 .06
SAL 603 Resist를 사용한 변형 가우시안 전자빔 리소그라피 공정
대한전자공학회 워크샵
1991 .01
리소그라피의 최신기술동향
한국반도체장비학회지
2002 .01
E-beam Lithography ( Equipment )
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
New Approach of Monte Carlo Simulation for Low Energy Electron Beam Lithography
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
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