코발트 실리사이드에 의한 게이트 측벽 기공 형성에 대한 고찰

김영철 ,  김기영 ,  김병국

한국결정학회지

2001 .01

Co - Si계의 동시증착과 고상반응시 상전이 및 CoSi₂층의 저온정합성장

박상욱 ,  심재엽 ,  지응준 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

1993 .12

Ultra shallow p+n junction formation using the boron diffusion from epitaxial CoSi₂ film

곽준섭 ,  김기범 ,  백홍구 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

Negative Metal Sputter (DC sputtering)를 이용하여 증착된 MgO 박막의 특성

이원정 ,  안경준 ,  여환욱 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .02

RF Sputtering으로 증착한 In2O3:C 박막의 구조 전이 연구

김주현 ,  강현철

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Epitaxial CoSi₂ using sacrificial Si on Si0.83Ge0.17 / Si(001) Schottky contact의 계면적 및 전기적 특성에 관한 연구

반상현 ,  신동옥 ,  안영섭 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Epitaxial growth of Tin Oxide thin films deposited by powder sputtering method

백은하 ,  김소진 ,  강현철

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Ion Beam Sputter 증착조건에 따른 구조적 특성 분석

유병윤 ,  박재환 ,  빈석민 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Bias effect on the chemical structure and hardness during deposition of carbon nitride film by RF magnetron sputtering

노기민 ,  유신재 ,  김정형 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Modulated Sputtering System (MSS)을 이용한 박막 증착 및 분석

김대철 ,  김태환 ,  김용현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

Magnetron sputtering 장비의 Target erosion이 증착에 미치는 효과에 대한 2D PIC 시뮬레이션 해석

오세훈 ,  이윤호 ,  박건우 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Magnetron Sputtering Technology의 연구 및 개발 방향에 대한 동향

박장식

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

고균일 Al 박막 증착을 위한 magnetron sputtering system 개발

이재희 ,  황도원

Applied Science and Convergence Technology

2008 .03

Diagnostics of Magnetron Sputtering Plasmas : Distributions of Density and Velocity of Sputtered Metal Atoms

Koichi Sasaki

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

The transient sputtering yield change of an amorphous Si layer by low energy O₂+ and Ar+ ion bombardment

Hye Chung Shin ,  Hee Jae Kang ,  Hyung Ik Lee 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2003 .10

Epitaxial growth of single BiFeO3 films by rf magnetron sputtering

Sang-Hyun Kim ,  V. Ravind ,  anath 외 2명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2006 .11

Sputter-deposition of lead oxide on large and textured substrate

이원규 ,  황재근 ,  이상원 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

ITO deposition by Ion beam sputtering

한영건 ,  조준식 ,  최성창 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .07

Sputtering 공정 중 발생 된 in-film defect 분석 방법

정현재 ,  이선영 ,  김형우 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

A study of sputter XPS depth profiling of Ta₂O5 / Si without preferential sputtering problems.

김경중 ,  문대원

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07