Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2 / Ar inductively coupled plasma

M. H. Shin ,  S. W. Na ,  N.-E. Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of MgO Thin Films Using a CH₄/Ar Plasma

Hwa Won Lee ,  Eun Ho Kim ,  Tae Young Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Etch Characteristics of IrMn Thin Films Using an Inductively Coupled Plasma of CH₃OH/Ar

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S .M. Kong 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Etch Characteristics of MgO Thin Films in Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar Plasmas

Il Hoon Lee ,  Tea Young Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

High density plasma etching of MgO thin films in Cl₂/Ar gases

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S. M. Kong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

BCl₃ / O₂/ Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구

이병택 ,  박철희 ,  김성대 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

1999 .12

Catalytic Effects of Ar addition for High - rate Dry etching of Ga - based compound semiconductors in High - Density Planar Inductively Coupled BCl3 / Ar Plasmas

이제원 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma

Wang YIYU ,  Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Inductively coupled plasma etching of chemical vapor deposition amorphous carbon in O₂/N₂/Ar chemistries

H.J. Lee ,  Y.R. Pa ,  k 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Characterization of inductively coupled Ar/CH4 plasma using tuned single langmuir probe and fluid simulation

차주홍 ,  한문기 ,  김동현 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

The Effect on Electrical Property of Etched Magnetic Tunnel Junction Stack in Cl₂/Ar and HBr/Ar plasma

Su Ryun Min ,  Han Na Cho ,  Seung Pil Choi 외 3명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2007 .05

유도 결합형 플라즈마를 이용한 BCl₃/ Cl₂/ Ar gas의 ZnO 박막의 식각 특성

나선웅 ,  이영식 ,  정성훈 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Investigation on Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using a CH4/Ar Plasma

Eun Ho Kim ,  Hwa Won Lee ,  Tae Young Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Plasma parameters variation in O₂ / He, Ar, Xe inductively coupled plasma as a function of mixing ratio

배근희 ,  유신재 ,  엄환섭 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

Effects of Etch Parameters on Etching of CoFeB Thin Films in CH₄/O₂/Ar Mix

Tea Young Lee ,  Il Hoon Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

The Influence of O₂ Gas on the Etch Characteristics of FePt Thin Films in CH₄/O₂/Ar gas

Il Hoon Lee ,  Tea Young Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

In - situ Plasma Diagnosis with an Optical Emission Spectroscopy during BCl₃- based High - Density Inductively Coupled Dry Etching

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02