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대한기계학회 Journal of Mechanical Science and Technology Journal of Mechanical Science and Technology Vol.19 No.11[Special Edition]
발행연도
2005.11
수록면
2,105 - 2,111 (7page)

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A Contour Offset Algorithm (COA) has been developed to fabricate nano-precision figures or patterns in the range of several microns by a nano-Replication Printing (nRP) process. In the nRP process, a femtosecond laser illuminated on photosensitive monomer resin to induce polymerization of the liquid monomer according to a volume pixel (voxel) matrix which is transformed from a two-tone (black and white) bitmap file. After two-photon absorbed photopolymerization (TPP), a droplet of ethanol is dropt on a glass plate to remove the unnecessary remaining liquid resin, leaving only polymerized patterns on the glass plate. In the nRP process, the replicated patterns do not precisely coincide with the initial designs due to an essential shortage of nRP process. Fabricated patterns by means of the nRP process become larger than the design in the amount of the voxel radius. In this work, an outer contour matrix of an initial design was constructed and reduced according to an offset-ratio calculated by the COA in order to obtain more precise patterns. Both the effectiveness and the accuracy of the proposed algorithm were demonstrated through chosen example.

목차

Abstract

1. Introduction

2. Nano Replication Printing Process

3. Process Parameters of the nRP Process

4. Direct Patterning by the Contour Offset Algorithm

5. Conclusions

Acknowledgment

References

참고문헌 (16)

참고문헌 신청
Chou, S. Y., Keimel, C. and Gu, J., 2002, "Ultrafast and Direct Imprint of Nanostructures in Silicon," Nature, Vol.417, No.20, pp.835~837. google schola Denk, W., Strickler, J. H. and Webb, W. W., 1990, "Two-Photon Laser Scanning Fluorescence Microscopy," Science, Vol.248, pp.73~248. google schola Galajda, P. and Ormos, P., 2001, "Complex Micromachines Produced and Driven by Light," Appl Phys. Left., Vol.78, No.2, pp.249~251. google schola Goodberlet, J. G. and Dunn, B. L., 2000, "Deep-Ultraviolet Contact Photo-lithography," Microelectronic Engineering, Vol.53, pp.95~99. google schola Lehmann, F., Richter, G., Borzenko, T., Hock, V., Schmidt, G. and Molenkamp, L. W., 2003, "Fabrication of Sub-10-nm Au-Pd Structures using 30keV Electron Beam Lithography and Lift-off," Microelectronic Engineering, Vol.65, pp.327~333. google schola

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