나노 복화(複畵)공정을 이용한 직접적 패터닝에 관한 연구

박상후; 임태우; 양동열; 이신욱; 공홍진

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저자정보: 박상후 (한국과학기술연구소) 임태우 (한국과학기술연구소) 양동열 (한국과학기술연구소) 이신욱 (한국과학기술연구소) 공홍진 (한국과학기술연구소)

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2003년도 생산 및 설계공학 부문 추계학술대회 논문집

발행연도: 2003.11

수록면: 18 - 21 (4page)

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A method of patterning submicron detailed figures, called as a nano replication printing (nRP), with two-photon-absorbed polymerization initiated by a femtosecond Ti:sapphire laser is proposed. In this method, the laser is scanned on a photosensitive urethane acrylate monomer resin, to induce photo-polymerization by two photon absorption along the rows of a voxel matrix transformed from a bitmap picture. The replicated figures with various dimensions, including sizes down to ~ 15 ㎛, can be fabricated experimentally with edge resolution of around 200㎚. Through the nRP process, the nano/micro-scaled direct patterning without any mask using a black-and-white type of bitmap file can be technologically feasible. The effectiveness of the proposed process has been verified by pattering several figures.

#Ultramicro-Stereolithography(극미세 광조형법) #Femto-second Laser(펨토초 레이저) #Two-photon Polymerization(이광자흡수 경화) #Nano Replication Printing Process(nRP, 나노 복화공정)

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