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논문 기본 정보

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저널정보
한국해양공학회 한국해양공학회지 한국해양공학회지 제21권 제1호
발행연도
2007.2
수록면
59 - 63 (5page)

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The thin film of indium tin oxide (ITO) was prepared using the inclination opposite target type DC magnetron sputtering equipment onto the glass substrate at room temperature, using oxidized ITO with In2O3 and SnO2in a weight ratio of 9:1. The elastic modulus and hardness of the ITO thin films, prepared at different deposition conditions, were determined through anano-indentation experiment. The work pressure was varied from 2.6×10－1 to 8.3×10－1Pa. The results show that the variation of work pressure during film deposition could vary significantly, according to the elastic modulus and hardness of the ITO thin films. It also can be seen that a minimum value exists in the film resistivity for the ITO thin films, prepared according to the variation of work pressure. However, the ITO film produced at room temperature had a microstructure in which a X ray diffraction peak is not dear, regardless of the work pressure.
#Nano-indentation 나노인덴테이션 #Elastic modulus 탄성계수 #Hardness 경도 #Indium tin oxide 인듐 주석 산화물

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (10)

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