신경회로망을 이용한 ITO 박막 성장 공정의 모형화

민철홍; 박성진; 윤능구; 김태선

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자료유형: 학술저널

저자정보: 민철홍 박성진 윤능구 김태선

저널정보: 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제22권 제9호

발행연도: 2009.1

수록면: 741 - 746 (6page)

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Compare to conventional Indium Tin Oxide (ITO) film deposition methods, cesium assisted sputtering method has been shown superior electrical, mechanical, and optical film properties. However, it is not easy to use cesium assisted sputtering method since ITO film properties are very sensitive to Cesium assisted equipment condition but their mechanism is not yet clearly defined physically or mathematically. Therefore, to optimize deposited ITO film characteristics, development of accurate and reliable process model is essential. For this, in this work, we developed ITO film deposition process model using neural networks and design of experiment (DOE). Developed model prediction results are compared with conventional statistical regression model and developed neural process model has been shown superior prediction results on modeling of ITO film thickness, sheet resistance, and transmittance characteristics.

#Indium tin oxide #ITO) #Neural network #Process modeling #Statistical regression analysis #Cesium assisted sputtering

참고문헌 (8)

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A. H. M. Zahirul Alam / 1999 / High-rate reactive deposition of indium oxide films on unheated substrate using ozonegas / Thin Solid Films 352 (1) : 133 ~

F. Colombel / 2009 / Ultrathin metal layer,ITO film and ITO/Cu/ITO multilayer towards transparent antenna / Science, Measurement & Technology, IET 3 (Iss3) : 229 ~

H. L. Ma / 1995 / Preparation and properties of transparent conducting indium tin oxide films deposited by reactive evaporation / Thin Solid Films 263 (1) : 105 ~

H.Kuhn / 1989 / Present status and future prospect of LB film research / 89 Fourth International Conference on LB films : 2 ~

J. B. Chu / 2008 / RF magnetron sputtered indium tin oxide thin films for application in solar cells / Nanoelectronics Conference : 728 ~

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