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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집
발행연도
2007.5
수록면
1,523 - 1,528 (6page)

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The relative contributions of phonon and electron to the thermal conductivity of silicon film with varying doping density are evaluated from the modified electron-phonon interaction model, which is applicable to the micro/nanoscale simulation of energy transport between energy carriers. The thermal conductivities of intrinsic silicon layer thicknesses from 20 ㎚ to 500 ㎚ are calculated and extended to the variation in n-type doping densities from 1.0 × 10¹? to 5.0 × 10²? ㎝?³, which agree well with the experimental data and theoretical model. From simulation results, the phonon and electron contributions to thermal conductivity are extracted. The electron contribution in the silicon is found to be not negligible above 10¹? ㎝?³, which can be classified as semimetal or metal by the value of its electrical resistivity at room temperature. The thermal conductivity due to electron is about 57.2% of the total thermal conductivity at doping concentration 5.0 × 10²? ㎝?³ and silicon film thickness 100 ㎚.

목차

Abstract
1. 서론
2. 수정된 전자-포논 상호작용 모델
3. 수치해석 결과
4. 결론
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