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논문 기본 정보

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저자정보
진재식 (서울대학교) 이준식
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2008년도 마이크로/나노공학부문 춘계학술대회 강연 및 논문집
발행연도
2008.5
수록면
39 - 44 (6page)

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The modified electron-phonon interaction model is proposed, and the relative contributions of phonons and electrons to the thermal conduction in doped silicon films are investigated. The carrier contributions in sub-micro scale heat conduction are validated by an order of magnitude analysis and comparison with previous data. The simulation results show that the electron contribution in Si-layer is not negligible when the doping concentration is higher than 10¹? ㎝?³, which can be classified as semimetal or metal by the value of its electrical resistivity at 300 K. The electron thermal conductivity increases with increasing doping density, and its fraction is about 57.2% of the total thermal conductivity when the doping concentration is 5.0 × 10²? ㎝?³ and silicon film thickness 100 ㎚.

목차

Abstract
1. 서론
2. 수정된 전자-포논 상호작용 모델
3. 수치해석 결과
4. 결론
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