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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.25 No.4
발행연도
2008.4
수록면
134 - 139 (6page)

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A spirally arrayed nano-pattern is designed as a model pattern for the next generation optical storage media. The pattern consists of 4 types of embossed rectangular dot, which are 50㎚, 100㎚, 150㎚ and 200㎚ in length and 50㎚ in width. The height of the dot is designed to be 50㎚. The pitch of the spiral track of the pattern is 100㎚. A ER(Electron resist) master for this pattern is fabricated bye-beam lithography process. The ER is first spin-coated to be 50㎚ thick on a Si wafer and then the model pattern is written on the coated ER layer bye-beam. After developing this pattern written wafer in the solution, a ER pattern master is fabricated. The most conventional e-beam machine can write patterns in orthogonal way, so we made our own pattern generator which can write the pattern in circular or spiral way. This program generates the patterns to be compatible with the e-beam machine from Raith(Raith 150). To fabricate 50㎚ pattern master precisely, a series of experiments were done including the design compensation for the pattern size, optimization of the dose, acceleration voltage, aperture size and developing. Through these experiments, we conclude that the higher accelerating voltages and smaller aperture size are better for mastering the nano pattern which is in order of 50㎚. With the optimized e-beam lithography process, a spiral arrayed 50㎚ pattern master adopting PMMA resist was fabricated to have dimensional accuracy over 95% compared to the designed. Using this pattern master, a metal pattern stamp will be fabricated by Ni electro plating for injection molding of the patterned plastic substrate.
#Optical storage memory(광정보메모리) #Electron beam lithography(전자빔 리소그래피) #Discrete spiral pattern(불연속적 나선형 패턴)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 광정보저장 매체를 위한 불연속적인 나선형 패턴 설계
3. 전자빔 리소그래피를 이용한 광정보저장 매체용 나선형 마스터 제작
4. 결론
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참고문헌

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Sumio, H. / 2003 / SNOM Imaging of very fine pits formed by EB lithography of ultrahigh density optical recording / Microelectronic Engineering 67-68(1):728~735 google schola 서영호 / 2005 / 재사용 가능한 100nm급 패턴의 퀄츠 마스터 제작 및 퀄츠 마스터를 사용한 사출성형실험 / 대한기계학회논문집 A 29(2):228~231 dbpia Michael, J. W. / 2003 / Nanometer-period gratings in hydrogen silsesquioxane fabricated by electron beam lithography / Journal of Vaccum Science Technology 21(6):L12~L15 google schola Yoshihiko, H. / 2002 / Nanoimprint lithography using replicated mold by electroforming / Appl.Phys 41(6B):4186~4189 google schola 오승훈 / 2007 / 광자결정 도파로 성형용 PDMS 스탬프 제작 / 한국정밀공학회지 24(4):153~158 dbpia

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