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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제38권 제2호
발행연도
2005.4
수록면
73 - 78 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2005

ICP MgO 마그네트론 스퍼터링에서 실시간 공정 진단
주정훈 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2005.05 학술대회자료
MgO 증착을 위한 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터링에서 실시간 공정 진단
주정훈 한국표면공학회지 2005.04 학술저널

초록· 키워드

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A real-time monitoring of ICP(inductively coupled plasma) assisted magnetron sputtering of MgO was carried out using a QMS(quadrupole mass spectrometer), an OES(optical emission spectrometer), and a digital oscilloscope with a high voltage probe and a current monitor. At the time of ICP ignition, the most distinct impurity was OH emission (308.9 nm) which was dissociated from water molecules. For reactive deposition, oxygen was added to Ar and the OH emission intensity was reduced abruptly. When the discharge voltage was regulated by a PID controller from 240V(metallic mode) to 120V(oxide mode), the emission intensity from Mg (285.2 ㎚) changed proportionally to the discharge voltage, but the intensity of Ar 1(811.6 ㎚) was constant. At 100V of discharge voltage, Mg sputtering was almost stopped. Emissions from Ar 1(420.1 ㎚) and Mg I were dropped down to 1/10, but Ar 1(811.6 ㎚) didn't change. And the emission from atomic oxygen (O I, 777.3 ㎚) was increased to 10 times. These results are compatible with those from QMS study.
#Plasma display panel #MgO #Inductively coupled plasma #Sputtering

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험 결과
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (2)

참고문헌 신청
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