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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제38권 제5호
발행연도
2005.10
수록면
188 - 192 (5page)

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Indium zinc oxide (IZO) thin films were deposited on glass substrate by de magnetron sputtering. The effects of oxygen flow rate and deposition temperature on electrical and optical properties of the films were investigated. With addition of small amount of oxygen gas, the characteristic properties of amorphous IZO films were improved and the specific resistivity was about 4.8×10<SUP>-4</SUP> Ωㆍ㎝. Change of structural properties according to the deposition temperature was observed with XRD, SEM, and AFM. Films deposited above 300°C were found to be polycrystalline. Surface roughness of the films was increased due to the formation of grains on the surface. Electrical conductivity became deteriorated for polycrystalline IZO films. Consequently, high quality IZO films could be prepared by dc sputtering with O₂/Ar ? 0.03 and deposition temperature in range of 150-200°C; a specific resistivity of 3.4 × 10<SUP>-4</SUP> Ωㆍ㎝, an optical transmission over 90% at wavelength of 550 ㎚, and a rms value of surface roughness about 3Å.
#Indium zinc oxide #Transparent conductive oxide #Sputtering #Electrical transport properties #Transmittance

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

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[학술지(정기간행물)] - Joshi, R. N / 1995 / Thin Solid Films 257 : 32 ~ google schola [학술지(정기간행물)] - Morikawa, H / 1999 / Thin Solid Films 339 : 309 ~ google schola [학술지(정기간행물)] - Jung, Y. S / 2003 / Thin Solid Films 445 : 63 ~ google schola [학술지(정기간행물)] - Song, Y. S / 2004 / Thin Solid Films 467 : 117 ~ google schola

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