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Compared to conventional Indium Tin Oxide (ITO) film deposition methods, cesium (Cs) assisted sputtering offers higher film characteristics in terms of electrical, mechanical and optical properties. However, it showed highly non-linear characteristics between process input factors and equipment responses. Therefore, to maximize film quality, optimization of manufacturing process is essential and process characterization is the first step for process optimization. For this, we designed 2 level design of experiment (DOE) to analyze ITO film characteristics including film thickness, resistivity and transmittance. DC power, pressure, carrier flow, Cs temperature and substrate temperature were selected for process input variables. Through statistical effect analysis methods, relation between three types of ITO film characteristics and five kinds of process inputs are successfully characterized and eventually, it can be used to optimize Cs assisted sputtering processes for various types of film deposition.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험결과 및 분석
4. 결론
참고문헌
참고문헌 (7)
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1. [학술지(정기간행물)] - / 2006 / 유기절연재료 ; 유기박막의 전기적 특성 연구 19 (10) : 953 ~ 959
2. [학술지(정기간행물)] - / 2005 / Printing Organic Thin-film Transistor Technology : 49 ~ 52
3. [학술지(정기간행물)] - / 2006 / Displays Develop a New Flexibility 9 : 46 ~ 52
4. [학술지(정기간행물)] - / 2005 / Au-ITO Anode for Efficient Polymer Light-emitting Device Operation 17 (3) : 543 ~ 545
5. [학술지(정기간행물)] - / 2005 / Electromechanical Properties of Transparent Conducting Substrates for Flexible Electronic Displays 93 (8) : 1451 ~ 1458
2. [학술지(정기간행물)] - / 2005 / Printing Organic Thin-film Transistor Technology : 49 ~ 52
3. [학술지(정기간행물)] - / 2006 / Displays Develop a New Flexibility 9 : 46 ~ 52
4. [학술지(정기간행물)] - / 2005 / Au-ITO Anode for Efficient Polymer Light-emitting Device Operation 17 (3) : 543 ~ 545
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