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이용수
2005
1. Introduction
2. Experimental
3. Conclusion
Reference
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PECVD법에 의해 증착된 Ti-Si-C 코팅막내의 Si 함량과 증착온도에 따른 미세경도와 탄성계수변화
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2004 .05
PECVD법에 의해 증착된 Ti-B-C 코팅막의 Boron함량에 따른 미세구조 및 기계적 물성 변화
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Ti-Si-C, Ti-B-C 코팅막 내의 증착온도에 따른 미세구조와 기계적 물성 변화
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
60㎒ PECVD법에 의한 μc-Si:H 박막의 저온증착 및 태양전지 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
Si 및 InP 위에 PECVD법에 의한 $Si_{3}N_{4}$의 증착
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
PECVD법에 의해 증착된 Ti-B-C 코팅막 내의 보론함량과 증착온도에 따른 미세구조 및 기계적 물성의 변화
한국표면공학회지
2005 .06
RF-PECVD법에 의한 Ti-Si-N 박막의 증착거동
한국표면공학회지
2002 .08
Hybrid코팅시스템에 의해 증착된 Ti-Cr-Si-N 코팅막의 합성 및 기계특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
Synthesis and Microstructure of Ti-B-N by a PECVD technique
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .10
Optical Properties of Si nanocrystalline using PECVD
대한전기학회 학술대회 논문집
2011 .11
PECVD에 의한 μc-Si : H 박막트랜지스터의 제조 ( Fabrication of μc-Si : H TFTs by PECVD )
전자공학회논문지-A
1996 .05
PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착
한국표면공학회지
2002 .04
PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
Investigation on the Electric Properties of a-Si on c-Si by used PECVD
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2012 .06
이온선 보조 증착법을 이용한 Ti/Si계 반응에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
RF-PECVD법과 ECR-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 물성에 관한 비교 연구
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
Synthesis and Properties of the Ti-B-N coatings deposited by PECVD with different chemical composition
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .11
PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착
한국정보통신학회논문지
2007 .11
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