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이용수
ABSTRACT
INTRODUCTION
EXPERIMENTAL
RESULTS AND DISCUSSIONS
CONCLUSION
ACKNOWLEDGEMENTS
REFERENCES
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LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIOx FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR
한국표면공학회지
1996 .12
DC Plasma CVD 법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1993 .11
Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구 ( Fabrication and Characterization of a-Si : H Films by a Remote Plasma Enhanced CVD )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
Microwave Plasma CVD로 제조한 다이아몬드 박막의Morphology에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
LOW TEMPERATURE DIAMOND GROWTH USING MICROWAVE PLASMA CVD
한국표면공학회지
1996 .10
Plasma CVD 에 의한 DLC 박막 제작시 수소가스의 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
Effects of Source Gas for Preparation of Carbon Nitride Using Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
RF플라즈마 CVD법에 의한 Diamond합성
대한전기학회 학술대회 논문집
1989 .07
고주파플라즈마 CVD법에 의한 다이아몬드상 탄소박막의 합성
전기학회논문지
1990 .10
고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장
전기학회논문지 C
2001 .02
Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2005 .01
플라즈마 CVD를 이용한 탄소나노튜브의 성장
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2005 .06
플라즈마 처리에 따른 CVD 그래핀의 전하 농도 및 이동도 변화에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2012 .05
FE Properties of Carbon Nitride Prepared by Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
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