임프린트 기반 마이크로 광도파로의 변형 특성 연구

류진화; 김창석; 정명영

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자료유형: 학술저널

저자정보: 류진화 김창석 정명영

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.25 No.11

발행연도: 2008.11

수록면: 100 - 106 (7page)

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We have studied the characteristic changes of optical device using imprint lithography. An imprinted structure is inherently involved in residual stress due to the temperature and the pressure cycle during fabrication process. A structure with residual stress undergoes stress relaxation, which leads to dimensional change. Therefore, annealing processes was performed to reduce the residual stress of imprinted polymer channel. Reduction of residual stress was confirmed through dimensional change, birefringence, and the mechanical properties. We have fabricated an optical device, and it saw the optical intensity changes within 0.1 % for 1 month.

#Imprint Lithography(임프린트 리소그래피) #Residual Stress(잔류 응력) #Long-term Reliability(장기간 신뢰성) #Optical Waveguide(광도파로)

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