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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제41권 제6호
발행연도
2008.12
수록면
287 - 291 (5page)

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Reactively magnetron sputtered TiN films were deposited on Si wafers under varying bias voltage and characterized by X-ray diffraction, field-emission scanning electron microscopy and Nanoindentation. The films deposited under an Ar + N₂ atmosphere exhibited a mixed (200)-(111) orientation with a strong (200) texture, which subsequently changed to a strong (111) texture with increasing bias voltage. The changes in texture and grain size of the TiN thin films are due to one or a combination of factors such as strain energy, surface free energy, surface diffusivity and adatom mobility. The influence of each factor depends on the processing conditions. The average deposition rate and grain size were calculated from FE-SEM images of the films indicating that the deposition rate was lower at the films deposited under bias voltage.
#Reactive magnetron sputtering #TiN coating #Substrate bias #Microstructure

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (14)

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1. [학술지(정기간행물)] - C. H. Ma / 2006 / / Surf. Coat. Tech 200 : 3868 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - L. W. Ma / 2007 / / Thin Solid Films 515 : 3190 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - C. S. Shin / 2003 / / J. Appl. Phys 93 (10) : 6025 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - M. K. Lee / 1997 / / J. Mater. Res 12 (9) : 2393 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - I. Petrov / 2003 / / J. Vac. Sci. Tech 21 : S117 ~ google schola

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