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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
[참고문헌]
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CF4/O2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각
전기전자재료학회논문지
2002 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
Downstream 유도형 반응기의 제작 및 CF4 / O2 플라즈마를 이용한 a-Si : H의 식각 ( Fabrication of Downstream Inductively Coupled Reactor and Etching of a-Si : H Using CF4 / O2 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1992 .07
O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
CF플라즈마 처리에 의한 잉크젯 프린팅 Ag박막과 폴리이미드 사이의 계면파괴에너지 향상에 관한 연구
한국재료학회지
2007 .01
Polyimide Films
고분자 과학과 기술
1995 .06
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식간에 관한 연구
전기학회논문지
1987 .11
유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
Al/Polyimide 구조에서의 알루미늄 식각에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Ar/CF4 Gas를 이용한 대면적 유도결합 플라즈마의 광분석 장치 개발에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2014 .07
유체시뮬레이션을 통한 Ar/CF₄ 자화유도결합 플라즈마의 특성 연구
전기학회논문지
2015 .04
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
POLYIMIDE / POLYIMIDE MOLECULAR COMPOSITES
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1991 .04
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 건식 식각시 산소 가스 첨가 효과
전기학회논문지 C
1999 .06
평판형 유도결합 플라즈마 장치의 CF₄ 방전에 대한 Global Simulation
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .07
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