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저자정보
김윤기 (Pusan National University) 손의정 (Pusan National University) 위성석 (Pusan National University) 김동현 (Pusan National University) 이호준 (Pusan National University)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제64권 제4호
발행연도
2015.4
수록면
560 - 566 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2015

유체시뮬레이션을 통한 Ar/CF₄ 자화유도결합 플라즈마의 특성 연구
김윤기 ,  손의정 ,  위성석 외 2명 전기학회논문지 2015.04 학술저널

2014

CF4/Ar 자화유도결합 플라즈마의 특성
김윤기 ,  손의정 ,  이호준 한국진공학회 학술발표회초록집 2014.08 학술대회자료
대면적 유도결합 및 자화유도결합 플라즈마의 진단과 시뮬레이션에 관한 연구
김윤기 전자전기컴퓨터공학과 2014.01 학위논문

초록· 키워드

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The self-consistent simulation based on the drift-diffusion approximation with anisotropic transport coefficients was performed. The RHCP-wave propagation was observed in MICP and this wave was refracted toward the high-density region. The calculated impedance seen from the antenna terminal shows that resistance component of MICP is a higher than that of ordinary ICP. Because of a higher resistance, the power transfer efficiency was improved to 95%. This property is practically important for large-size, low-pressure plasma sources because high resistance corresponds to high power-transfer efficiency and stable impedance matching characteristics.
#Inductively Coupled Plasma #Ar/CF₄ Plasma #Fluid Simulation

목차

Abstract
1. 서론
2. 시뮬레이션 구성 및 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (20)

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1. [학술지(정기간행물)] - Chen-Fu Chien / 2007 / Economic Analysis of 450mm Wafer Migration / IEEE, Semiconductor Manufacturing : 1 ~ 4 google schola 2. [인터넷자원] - Tables of Physical and Chemical Constants / / 2.1.4 Hygrometry. Kaye and Laby Online. Ver. 1.0 google schola 3. [인터넷자원] - / / PHELPS database google schola 4. [단행본] - Michael A. Lieberman / 2005 / Principles of Plasma Discharges and Materials Processing / John Wiley&Sons google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Alex V. Vasenkov / 2004 / Properties of c-C4F8 inductively coupled plasmas. II. Plasma chemistry and reaction mechanism for modeling of Ar/c-C4F8/O2 discharges / J. Vac. Sci. Technol A22 : 511 ~ google schola

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