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O₂/CF₄ 유도결합 플라즈마를 이용한 Polyimide 박막의 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .07
CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식간에 관한 연구
전기학회논문지
1987 .11
Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Dry etching of ZnO thin film using a $CF_4$ mixed by Ar
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
아르곤과 혼합된 사불산화탄소 가스의 플라즈마 분해에 관한 공간 평균 시뮬레이션
조명·전기설비학회논문지
2018 .12
A Study on the PEO-LiN$(SO_2CF_2CF_3)_2-SiO_2$ Composite Electrolyte
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
장르 기반 Collaborative Filtering 영화 추천
한국인터넷방송통신학회 논문지
2010 .01
O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
고열전도 CF/Al 복합재료의 개발을 위한 일방향 CF 프리폼의 제조
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .04
The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
CF4 / O2 가스계에 CO와 CO2 첨가가 텅스텐의 식각 속도 및 선택도에 미치는 영향 ( Effect of CO and CO2 Addition to CF4 / O2 Gas System on the Etch Rate and Selectivity of Tungsten )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
CF4/O2 Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응
전기전자재료학회논문지
2002 .01
폴리비닐알코올 필름 표면특성에 있어 $CF_{4}$ 플라즈마 처리의 영향
한국섬유공학회지
2005 .01
Study on the surface characteristics of parylene-C films in inductively coupled $O_2/CF_4$ gas plasma
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
리눅스 스케줄링 알고리즘 CFS를 위한 시뮬레이션 모델
한국정보기술학회논문지
2011 .07
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