마그네트론 스퍼터링법으로 제작된 GZO 투명전도막의 전기적 및 광학적 특성

노임준; 김성현; 신백균; 이경일; 김선민; 조진우

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자료유형: 학술저널

저자정보: 노임준 (인하대학교) 김성현 (전자부품연구원) 신백균 (인하대학교) 이경일 (전자부품연구원) 김선민 (전자부품연구원) 조진우 (전자부품연구원)

저널정보: 한국조명·전기설비학회 조명·전기설비학회논문지 조명·전기설비학회논문지 제24권 제4호

발행연도: 2010.4

수록면: 110 - 115 (6page)

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본 논문에서는 rf 마그네트론 스퍼터링 기술을 이용하여 코닝 글라스 기판 위에 갈륨이 도핑된 산화아연(GZO)을 투명 전도막으로 제작하여 그 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다. GZO 박막의 제작은 Zn : 97[wt%], Ga₂O₃ : 3[wt%]의 GZO 세라믹 타겟을 이용하였으며, 기판온도 및 산소압력과 같은 증착조건을 변화시키며 증착하였다. 본 연구에서 제작된 GZO 박막중 기판온도 200[℃], Ar 50[sccm], O₂ 5[sccm], rf power 80[W] 및 증착압력 5[mtorr]의 조건에서 제작된 박막에서 가시광 영역에서 90[%] 이상의 높은 가시광 투과율, 2.536×10-4[Ω?㎝]의 비저항, 7.746×1020[㎝-3]의 캐리어 농도 및 31.77[㎠/V?S]의 캐리어 이동도로 가장 좋은 전기적 특성이 관찰되었다.

#ZnO #TCO #GZO #Sputtering

참고문헌 (9)

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2. [학술지(정기간행물)] - Simon L. King / 1996 / Pulsed-laser deposited ZnO for device applications / Applied surface science 96 : 811 ~ 818

3. [학술지(정기간행물)] - Y.L. Liu / 2000 / Structural and optical properties of nanocrystalline ZnO films grown by cathodic electrodeposition on Si substrates / Applied physics B,vol 322 (1) : 31 ~ 36(6)

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5. [학술지(정기간행물)] - R.J.Hong / 2003 / Studies on ZnO:Al thin films deposited by in-line reactive mid-frequency magnetron sputtering / Appl.Surf.Sci 207 : 341 ~ 350

6. [학술지(정기간행물)] - Zhai. Jiwei / 2000 / The dielectric properties and optical propagation loss of c-axis oriented ZnO thin films deposited by sol gel process / Ceramics international 26 (8) : 883 ~ 885(3)

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