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손용 (한국과학기술원) 임태우 (한국과학기술원) 하철우 (한국과학기술원) 양동열 (한국과학기술원) 정병제 (한국과학기술원) 공홍진 (한국과학기술원)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.27 No.10
발행연도
2010.10
수록면
93 - 99 (7page)

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A nano-stereolithography is the direct patterning process with a nanoscale resolution using twophoton absorption induced by a femtosecond laser. However, in the majority of the works, the fabrication of 3D microstructures have been done only onto transparent glass due to the use of an oil immersion objective lens for achieving a high resolution. In this work, the coaxial illumination and the auto-focusing system are proposed for the direct patterning of nano-precision patterns on an opaque substrate such as a silicon wafer and a metal substrate. Through this work, 3D polymer structures and metallic patterns are fabricated on a silicon wafer using the developed process.

목차

1. 서론
2. 나노 스테레오리소그래피 공정
3. 불투명 기판위 마이크로 형상 제작
4. 결론
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참고문헌 (1)

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