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RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .09
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Effect of Annealing Temperature and Annealing Time on Electrical Properties of HfZrO₄ Dielectric
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Microwave Annealing Effect of Low Thermal Budget on HfO₂ MOS Capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Effects of Annealing Temperature on Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO2/Ge Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구
Applied Science and Convergence Technology
2009 .01
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Investigation of band alignments of HfO₂ and Al₂O₃ thin films using XPS
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
Impact of impurities and annealing conditions on the characteristics of Si/HfO₂:Al/TiN ReRAM devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Reset-first Resistance Switching Mechanism of HfO2 Films Based on Redox Reaction with Oxygen Drift-Diffusion
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Thermodynamic Stability and Interface Chemical Reaction in HfO₂Laminate Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Effects of Temperature Stress on VFB Shifts of HfO2-SiO2 Double Gate Dielectrics Devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
ALD growth of HfO₂ thin films using Hf(mp)₄ and water
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
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