Properties of HfSi_xO_y/HfO₂ film as a various Annealing Temperature

송유주 ,  박재경 ,  노용한

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Investigation of HfO₂-Al₂O₃laminate and Hf - Al- O films with poly - Si Gates

J. Hua ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .02

RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구

김주영 ,  김수인 ,  이규영 외 7명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .09

범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구

김대희 ,  서화일 ,  김영철

Applied Science and Convergence Technology

2009 .01

Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Reset-first Resistance Switching Mechanism of HfO2 Films Based on Redox Reaction with Oxygen Drift-Diffusion

Jonggi Kim ,  Sunghoon Lee ,  Kyumin Lee 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer

Jiho Seo ,  Changhwan Shin

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Investigation of band alignments of HfO₂ and Al₂O₃ thin films using XPS

Hua Jin ,  S. W. Lee ,  H. J. Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition

김경문 ,  윤순길 ,  정낙관

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films

Woojin Jeon ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si

Soonkon Kim ,  Byoungdeog Choi

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor

Kyoung-Mun Kim ,  Soon-Gil Yoon ,  Nak-Kwan Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition

Jae Won Hwang ,  Sang Woo Song ,  Mansik-Jo 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Electric structure and thermal stability of HfO₂ - Al₂O₃ (HfAlO) film for gate insulator

이상행 ,  정권범 ,  조만호 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .02

ALD growth of HfO₂ thin films using Hf(mp)₄ and water

조원태 ,  장홍석 ,  양택승 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

A Microscopic Analysis of the Organic Laminated Thin Films

이한용 ,  강미정 ,  이준균 외 2명

한국분석과학회 학술대회

2010 .05

Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram

Seunghyeon Hong ,  Jungkyu Yoon ,  Dante Ahn 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Transparent Thin Film Transistor using Al₂O₃/HfO₂ as Gate Insulator Layer

J. K. Pa ,  k ,  Yonghan Roh

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02