지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Dry etching of Al₂O3 thin films in inductively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma
한국결정학회 학술연구발표회
2007 .01
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F8 for inductively coupled plasma based on plasma parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2010 .12
Two - dimensional simulation of inductively coupled large - area plasma source
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Numerical Modeling of an Inductively Coupled Plasma Based Remote Source for a Low Damage Etch Back System
Applied Science and Convergence Technology
2014 .07
Adhesion property of Si-based thin film on polymer substrate treated by Inductively Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2 / Ar inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Etch Characteristics of IrMn Thin Films Using an Inductively Coupled Plasma of CH₃OH/Ar
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2010 .12
Inductively Coupled Plasma 방전의 Global Modelling 과 Simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Pulsed Inductively Coupled Plasma를 이용한 Si nanostructure 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Interpretation of current decrease during E - H mode transition in a cylindrical inductively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma
동굴
2007 .01
0