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김동우 (Dow Chemical Company) Kathleen McHugh (Dow Chemical Company) 안봉수 (삼성전자) 김태성 (성균관대학교)
저널정보
한국트라이볼로지학회 한국트라이볼로지학회 학술대회 한국윤활학회 2010년도 제50회 춘계학술대회
발행연도
2010.6
수록면
159 - 160 (2page)

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In this work, we know that the Roughness on a CMP pad can present the status of a CMP Pad. If we manage a roughness of CMP pad, we can get a good CMP performance at an initial Pad life time. As a result of this work, we can get new generation ^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE01602386');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#
#Chemical Mechanical Planarization #CMP Pad #Pad Surface Roughness

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