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이용수
요약
ABSTRACT
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 시료제작 및 실험방법
Ⅲ. 결과 및 논의
Ⅳ. 결론
참고문헌
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Reducing Crystallization Temperature and Time of a LPCVD Amorphous Silicon Thin Film in Al / Amorphous Si Structure
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1996 .01
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도우핑된 비정질 실리콘의 온도에 따른 광학적 특성 ( Temperature Effects on the Optical Properties of Doned Amorphous Silicon )
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1985 .01
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1996 .01
Application of 532 ㎚ Nd:YAG Laser Annealing to Crystallization of Amorphous Si Thin Films
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2009 .05
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1997 .01
Stability of an Amorphous Silicon Oscillator
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2006 .02
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2010 .04
Excimer-Laser Crystallization for Low-Temperature Polycrystalline Si TFTs
한국정보디스플레이학회 학술대회
2000 .01
P-Channel Amorphous-Silicon Thin-Film Transistors
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1993 .01
HWCVD를 이용한 Amorphous Si 박막 증착공정에서 수소량에 따른 박막성장 특성
Current Photovoltaic Research
2013 .06
Application of 532 nm YAG-Laser Annealing to Crystallization of Amorphous Si Thin Films Deposited on Glass Substrates
한국재료학회지
2008 .01
$SiO_2$ 위에 LP-CVD로 증착한 비정질 $Si/Si_{0.69}Ge_{0.31}, Si_{0.69}Ge_{0.31}Si$ 및 Si의 결정화 거동
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
AGGLOMERATION OF AMORPHOUS SILICON NANOPARTICLES BY THERMAL TREATMENT TOWARD SILICON THIN FILM FORMATION
AFORE
2011 .11
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