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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 식각모의실험을 위한 새로운 알고리즘
Ⅳ. 시뮬레이션 결과 및 분석
Ⅴ. 결론
참고문헌
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쌍극성표동 효과와 이체충돌효과를 고려한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 3차원 식각
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
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전자공학회논문지-D
1997 .06
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한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
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전기전자재료학회논문지
2004 .01
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대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
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한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .05
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) System에서 자장이 플라즈마와 PR 식각특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
U Type Ferrite Core를 이용한 Inductive Coupled Plasma Source에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 변수가 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Parameters on Etch Characteristics in ECR Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
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