지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Oxide Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
Dry Etcher 기술개발 동향과 발전
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
대한전자공학회 학술대회
2014 .06
Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Vibration Reduction of Spin Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Fault Detection of Plasma Etchers using Big Data Analysis
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2014 .09
수직형 식각 장비의 노즐 분사 시스템에 대한 연구
반도체디스플레이기술학회지
2011 .01
Negative Ion Formation in SiO2 Etching Using a Pulsed ICP Plasma
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
차세대 Poly Etcher 장비에 요구되는 요소 기술의 이해
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
Spin Etcher의 진동 분석
한국반도체장비학회지
2003 .01
0