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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 플라즈마 특성
Ⅲ. 산화막 식각
Ⅳ. 결론
참고문헌
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Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
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Negative Ion Formation in SiO2 Etching Using a Pulsed ICP Plasma
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E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
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ICP-RIE 방법에 의한 Si 식각 특성 개선에 관한 연구
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1997 .01
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2007 .04
ICP Etching of RuO2 Thin films
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반도체디스플레이기술학회지
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Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System
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ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
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