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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
차주홍 (부산대) 이호준 (부산대)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제65권 제7호
발행연도
2016.7
수록면
1,211 - 1,217 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (9)

2020

유도결합 및 초고주파 하이브리드 플라즈마 발생장치에 관한 연구
차주홍 ,  김군호 ,  이호준 대한전기학회 학술대회 논문집 2020.07 학술대회자료

2018

선형 초고주파 플라즈마의 유체 시뮬레이션에 관한 연구
차주홍 ,  이호준 대한전기학회 학술대회 논문집 2018.10 학술대회자료

2017

선형 초고주파 플라즈마의 전기적 진단과 유체 시뮬레이션에 관한 연구
차주홍 ,  이호준 대한전기학회 학술대회 논문집 2017.10 학술대회자료

2016

선형 초고주파 플라즈마 및 유도결합 Ar/CH4 플라즈마의 전기적 진단과 유체 시뮬레이션 연구
차주홍 ,  이호준 대한전기학회 학술대회 논문집 2016.10 학술대회자료
유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar/CH₄ 플라즈마의 특성 분석
차주홍 ,  이호준 전기학회논문지 2016.08 학술저널
유체 시뮬레이션과 정전 탐침법을 이용한 유도결합 Ar 플라즈마 특성에 관한 연구
차주홍 ,  이호준 대한전기학회 학술대회 논문집 2016.07 학술대회자료
정전 탐침법과 유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar 플라즈마의 특성 연구
차주홍 ,  이호준 전기학회논문지 2016.07 학술저널

2015

유도결합 Ar/CH4 플라즈마의 전기적 진단과 유체 시뮬레이션 연구
차주홍 ,  한문기 ,  서권상 외 1명 대한전기학회 학술대회 논문집 2015.11 학술대회자료
유도결합 Ar/CH4 플라즈마의 전기적 진단과 유체 시뮬레이션
차주홍 전자전기컴퓨터공 2015.01 학위논문

초록· 키워드

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Discharge characteristics of inductively coupled plasma were investigated by using electrostatic probe and fluid simulation. The Inductively Coupled Plasma source driven by 13.56 Mhz was prepared. The signal attenuation ratios of the electrostatic probe at first and second harmonic frequency was tuned in 13.56Mhz and 27.12Mhz respectively. Electron temperature, electron density, plasma potential, electron energy distribution function and electron energy probability function were investigated by using the electrostatic probe. Experiment results were compared with the fluid simulation results. Ar plasma fluid simulations including Navier-Stokes equations were calculated under the same experiment conditions, and the dependencies of plasma parameters on process parameters were well agreed with simulation results. Because of the reason that the more collision happens in high pressure condition, plasma potential and electron temperature got lower as the pressure was higher and the input power was higher, but Electron density was higher under the same condition. Due to the same reason, the electron energy distribution was widening as the pressure was lower. And the electron density was higher, as close to the gas inlet place. It was found that gas flow field significantly affect to spatial distribution of electron density and temperature.
#13.56 Mhz #Fluid simulation #PECVD #Ar plasma #Inductively Coupled plasma

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험구성 및 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (10)

참고문헌 신청
[단행본] - Michael A. Lieberman / 2005 / Principles of Plasma Discharges and Materials Processing / John Wiley&Sons google schola [학술대회논문] - Chen-Fu Chien / 2007 / Economic Analysis of 450mm Wafer Migration / IEEE, Semiconductor Manufacturing : 1 ~ 4 google schola [학술지(정기간행물)] - Isaac D sudit / 1994 / RF compensated probes for high-density discharges / Plasma Sources Sci. Technol 3 : 162 ~ 168 google schola [학술지(정기간행물)] - K Suzuki / 1998 / Power transfer efficiency and mode jump in an inductive RF discharge / Plasma Sources Sci. Technol : 713 ~ 720 google schola [학술지(정기간행물)] - R. J. Shul / 1996 / Inductively Coupled plasma etching of GAN / Applied Physics letters 69 : 1119 ~ google schola

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