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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2022.8
- 수록면
- 1,135 - 1,141 (7page)
- DOI
- 10.5370/KIEE.2022.71.8.1135
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In general, in plasma processing and research, the chamber length setting is a very important because it can change the plasma properties as well as the electromagnetic field (EM) distribution. In this work, the electrical and plasma characteristics are investigated in a top planar inductively coupled plasma with a bottom electrode. The experimental measurements show that the system resistance decreases from 0.145 Ω to 0.138 Ω as the chamber length increases from 6.5 cm to 11 cm. This can be explained by the increasing distance between the antenna and the electrode. When the plasma is discharged and not discharged to compare the distribution of electric and magnetic fields, the simulation is investigated when the chamber length is changed from 4 cm to 11 cm and the plasma density is changed from 1×109 cm-3 to 1×1011 cm-3. Experimental and simulation results are compared with each other and discussed along with the plasma characteristics and electron kinetics.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 구성
3. 전자기장 시뮬레이션
4. 결과 및 논의
5. 결론
References
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