지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.11
- 수록면
- 945 - 949 (5page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
In this letter, we report the Normally-Off AlGaN/GaN MOSHEMT by using damage-free one-step tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) wet recess etching process. The investigated device demonstrated a threshold voltage (V<SUB>th</SUB>) of + 0.9 V at V<SUB>DS</SUB> = 0.1 V, with maximum drain current of 210 mA/mm, maximum transconductance of 72 mS/mm at V<SUB>DS</SUB> = 7V and V<SUB>GS</SUB> = 5 V. In addition, enhanced performances such ad low off-state leakage current of ∼ 10<SUP>-14</SUP> A, high I<SUB>ON</SUB>/I<SUB>OFF</SUB> ratio of 10<SUP>10</SUP> and high breakdown voltage of ∼ 820 V were obtained. Furthermore, negligible hysteresis of threshold voltage (∼ 20 mV) is observed due to the suppression of the plasma induced surface damage at the recessed region after using one-step TMAH wet etching reduces charge trapping.
목차
Abstract
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Growth and device fabrication
Ⅲ. Results and discussion
Ⅳ. Conclusion
References
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
TMAH를 이용한 채널 방향에 따른 실리콘 식각 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
2018 .06
-
UV-LED/H₂O₂ 공정을 이용한 TMAH 제거 메커니즘 연구
대한환경공학회 학술발표논문집
2020 .11
-
TMAH 기반 전처리를 이용한 AlGaN/GaN HEMT의 양성자 조사에 대한 전기적 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
2024 .06
-
5 MeV 및 25 MeV 양성자 조사에서 TMAH 공정을 적용한 GaN MIS-HEMT의 전기적 특성 변화
전기전자학회논문지
2024 .12
-
AlGaN/GaN HEMT 소자 제작에서 게이트 리세스 공정 개선에 의한 소자 DC 특성의 변화
대한전자공학회 학술대회
2015 .06
-
P-GaN Gated AlGaN/GaN E-mode HFET Fabricated with Selective GaN Etching Process
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2020 .12
-
반도체 폐수 내 TMAH (Tetramethylammonium hydroxide) 분석에 관한 연구
대한환경공학회 학술발표논문집
2021 .11
-
전기응집부상 공정을 이용한 전자폐수 중의 TMAH 제거 기작
대한토목학회 학술대회
2023 .10
-
Development of apparatus for Single-sided Wet Etching and its applications in Corrugated Membrane Fabrication
센서학회지
2021 .01
-
p-GaN/AlGaN/GaN E-mode FET 제작을 위한 선택적 GaN 식각 공정 개발
한국정보통신학회논문지
2020 .02
-
바이폴라 이온교환막 전기투석 공정을 통한 반도체 폐수 내 TMAH 분리, 농축 및 재이용
대한환경공학회 학술발표논문집
2020 .11
-
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
-
UV/Persulfate와 전기분해를 이용한 2단계 TMAH 산화 처리 방법 연구
대한환경공학회 학술발표논문집
2019 .12
-
고농도 반도체 폐수에 포함된 Tetramethylammonium hydroxide(TMAH) 분석방법에 관한 연구
한국유체기계학회 학술대회 논문집
2022 .11
-
Design and Analysis of AlGaN/GaN Based DG MOSHEMT for High-Frequency Application
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2020 .01
-
Effects of Ohmic Area Etching on Buffer Breakdown Voltage of AlGaN/GaN HEMT
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2017 .06
-
A Review of Wet Chemical Etching of Glasses in Hydrofluoric Acid based Solution for Thin Film Silicon Solar Cell Application
Current Photovoltaic Research
2017 .09
-
건식 식각 공정 쿼츠의 제작방식에 따른 부품 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2021 .11
-
Analysis of issues in gate recess etching in the InAlAs/InGaAs HEMT manufacturing process
[ETRI] ETRI Journal
2023 .02
-
Selection of Sodium Acetate Draw Solutions for Forward Osmosis Application in TMAH Wastewater Treatment
대한환경공학회 학술발표논문집
2015 .10
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2017-569-001930902