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Sensitivity Enhancement of Fault Detection in Plasma Etching Processes using Optical Emission Spectroscopy with Multivariate Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Atomic Layer Etching of Tungsten using NF₃/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Sensitivity Enhancement of RF Plasma Etch Endpoint Detection With K-means Cluster Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Correlation Analysis of Plasma Properties and Film Properties using Optical Emission Spectroscopy in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes of Silicon Nitride
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Prediction of Silicon Nitride Film Properties by the Analysis of Optical Emission Spectroscopy Signals in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Correlation Study between Optical Emission Spectroscopy Signals and Silicon Nitride Film Properties in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Plasma Optical Signal Analysis for SiNx Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Plasma Diagnostics using Optical Emission Spectroscopy on Argon Capacitively Coupled Plasma with Various Line-of-Sight
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
PI(Plasma Information) 인자 모니터링을 통한 dry etch process chamber 상태 정량화 및 공정제어 알고리즘 기반 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
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