Anisotropic Atomic Layer Etching of W by Fluorination-Oxidation Cyclic Process

김두산 ,  김주은 ,  길유정 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Damage - Free Layer Control of MoS2 Using Atomic Layer Etching

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

차세대 원자층 공정 제어기술 개발: 원자층 식각(ALE)

전민성

진공이야기

2023 .03

Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma

길홍성 ,  길유정 ,  김두산 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Enhancement of Electrical Properties of GaN-based Devices by Atomic Layer Etching

김두산 ,  길유정 ,  장윤종 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

The comparison of end-point detection between optical emission spectroscopy and residual gas analysis in silicon etching in NF3/Ar Plasma

Hee Tae Kwon ,  Woo Jae Kim ,  Gi Won Shin 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Anisotropic/Isotropic Atomic Layer Etching of Metals

Doo San Kim ,  Ju Eun Kim ,  You Jung Gill 외 5명

Applied Science and Convergence Technology

2020 .05

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

C₃F₆O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석

이호석 ,  양경채 ,  김두산 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers

Yongjae Kim ,  Yebin Lee ,  Seonghyeon Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Thermal Atomic Layer Etching of Al₂O₃ Using Ligand Exchange with CF₄ and NF₃ Inductively Coupled Plasmas

Jihyun Kim ,  Yongjae Kim ,  Dahee Shim 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Analysis of electrochemical etching conditions of ultra-sharp tungsten tips and its applications

Kwangil KIM ,  Sang Jung AHN ,  Jongdeok PARK 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Layer-by-layer Control of MoS2 Thickness by ALET

김기현 ,  김기석 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

A study on the ion beam etching characteristics in the high aspect ratio contact

Ilhyeong LEE ,  Jongkyu KIM ,  Jongsoon PARK 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Machine Learning-Based Prediction of Atomic Layer Control for MoS² via Reactive Ion Etcher

Changmin Kim ,  Seunghwan Lee ,  Muyoung Kim 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2023 .09

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Atomic Layer Epitaxy of III-N Semiconductors

C.R. Eddy ,  N. Nepal ,  N.A. Mahadik 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Chronology of photoexcited carriers in atomic layers

Iwao Matsuda

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08