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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제19권 제6호
발행연도
2006.1
수록면
531 - 537 (7page)

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A micromachined piezoelectric microspeaker was fabricated with a highly c-axis oriented ZnO thin film on a silicon-nitride film having compressive residual stress. When it was measured 3 mm away from the microspeaker in open field, the largest sound pressure level produced by the fabricated microspeaker was about 91 dB at around 2.9 kHz for the applied voltage of 6 Vpeak-to-peak. The key technologies to these successful results were as follows: (1) the usage of a wrinkled diaphragm caused by the high compressive residual stress of silicon-nitride thin film, (2) the usage of the highly c-axis oriented ZnO thin film.
#Piezoelectric microspeaker #ZnO thin film #C-axis orientation #Silicon-nitride thin film #Compressive residual stress

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참고문헌 (16)

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/ 1987. / IC-processed piezoelectric microphone 8 (10) : 467 ~ google schola / 1989. / Integrated microphone with CMOS circuits on a single chip : 880 ~ google schola / 1992. / Micromachined subminiature condenser microphones in silicon a32 : 560 ~ google schola / 1993. / Piezoelectric microphone with on-chip CMOS circuits 2 : 111 ~ google schola / 1996. / Piezoelectric cantilever microphone and microspeaker 5 (4) : 238 ~ google schola

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