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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.1
- 수록면
- 47 - 52 (6page)
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We studied the electrical characteristics of low-k SiOCH interlayer dielectric(ILD) films fabricated by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). BTMSM precursor was evaporated and introduced with the flow rates from 16 sccm to 25 sccm by 1 sccm step with the constant flow rate of 60 sccm O₂in process chamber. The vibrational groups of SiOCH thin films were analyzed by FT/IR absorption lines, and the dielectric constant of the low-k SiOCH thin films were obtained by measuring C-V characteristic curves. The heat treatment on SiOCH thin films reduced the FTIR absorption intensity of the Si-O-CH₃bonding group and Si-CH₃ bonding group but increased the intensity of Si-O-Si(C) bonding group. The SiOCH ILD films could have low dielectric constant k ≃ 2 and also be reduced further by decreasing the CH₃ group density and increasing Si-O-Si(C) group density through annealing process.
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A. Grill / 2003 / Plasma enhanced chemical vapor deposited SiCOH dielectrics: from low-k to extreme low-k interconnect materials / J. of Applied Physics 93 : 1785 ~
C. H. Ting / 1995 / Methods and needs for low-k material research / Mat. Res. Symp. Proc. : 3 ~
Grill A. / 1999 / Low dielectric constant SiCOH films as potential cadidates for interconnect dielectrics / Mat. Res. Soc. Symp. Proc. : 107 ~
Grill, A. / 2001 / Ultralow-k dielectrics prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition / Applied Physics Letters 79 : 803 ~
Grill, A. / 2003 / Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SiOCH films : Fourier transform ingrared spectroscopy characterization / Journal of
C. H. Ting / 1995 / Methods and needs for low-k material research / Mat. Res. Symp. Proc. : 3 ~
Grill A. / 1999 / Low dielectric constant SiCOH films as potential cadidates for interconnect dielectrics / Mat. Res. Soc. Symp. Proc. : 107 ~
Grill, A. / 2001 / Ultralow-k dielectrics prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition / Applied Physics Letters 79 : 803 ~
Grill, A. / 2003 / Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SiOCH films : Fourier transform ingrared spectroscopy characterization / Journal of
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