Effects of N₂addition on chemical etching of silicon nitride layers in F₂/Ar/N₂remote plasma processing

S. M. Pa ,  k ,  H. W. Kim 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2007 .04

Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma

이종수 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application

Chang-ho Ra ,  Li Huamin ,  Yoo won jong 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films

김한수 ,  김창일 ,  우종창 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )

김성철 ,  황기웅 ,  이종덕 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구

황기웅 ,  이종덕 ,  김성철 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .12

Thermal Analysis of a Silicon Wafer during Plasma Etching

Y. A. Lin ,  Chin Pan

Heat Transfer Conference

1998 .08

CF4/O2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각

강필승 ,  김창일 ,  김상기

전기전자재료학회논문지

2002 .01

CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식간에 관한 연구

黃琪雄 ,  金成哲 ,  徐龍雲

전기학회논문지

1987 .11

The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system

Yoo ,  Jin-Soo ,  Lee 외 7명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2003 .01

포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구

문경일 ,  변상모 ,  조용기 외 2명

열처리공학회지

2005 .01

Characterization of Surface Damage and Contamination of Si Using Cylindrial Magnetron Reactive Ion Etching

Young ,  Yeom-Geun

한국재료학회지

1993 .01

A Study on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride Using SF6 Plasma

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Dependence of cation ratio in Oxynitride Glasses on the plasma etching rate

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma

우종창 ,  최창욱 ,  주영희 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

Controllable Etching of 2-Dimentional Hexagonal Boron Nitride by Using Oxygen Capacitively Coupled Plasma

Deshun Qu ,  Won Jong Yoo

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .05

Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas

Pa ,  k ,  Sang-Duk 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae-Soon Lim ,  Jong-Hoon Kim

Lubricants Symposium

1995 .10

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae Soon Lim ,  Jong Hoon Kim

Tribology and Lubricants

1995 .12

Plasma etching characteristics of hexagonal boron nitride for two dimensional electron devices

De-shun Qu ,  Won Jong Yoo

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11