메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제3권 제4호
발행연도
1994.12
수록면
442 - 448 (7page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
용액분무법으로 RuO₂ 박막을 석영 기판위에 성장시켰다. RuO₂ 박막의 결정구조는 정방구조이며 격자상수 a。=4.508 A, c。=3.092 A이였다. RuO₂ 박막은 금속성 전도성을 나타냈다. RuO₂ 박막의 광흡수도는 후열처리함에 따라 증가하였고 박막의 광흡수도의 최소값은 후열처리 온도에 의존하지 않으며 에너지로 환산하면 ~2.0 eV로 거의 일정하였다. RuO₂ 박막의 후열처리의 온도와 후열처리 분위기가 기판위에 성장된 RuO₂ 박막의 표면형태, gram 크기, grain 경계폭, 전기적 특성 등에 영향을 마쳤다. RuO₂ 박막이 실험실내의 공기중에 노출됨으로서 시료의 표면에 S와 C가 물리 흡착되었으며 sputtering 시간이 증가함에 따라 Ar^+ 이온 빔의 충격으로 RuO₂가 부분적으로 환원되어 O 원자의 피크 대 피크 높이가 감소하여 O/Ru의 피크 높이의 비가 낮게 관측되었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험

3. 결과 및 고찰

4. 결론

참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001261824