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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제4권 제2호
발행연도
1995.6
수록면
183 - 188 (6page)

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고에너지 (50~200 keV)로 가속된 이온을 모재표면에 물리적으로 투입하므로써 표면의 조성 및 조직을 변화시키는 공정인 이온주입기술을 이용하여 경량고강도소재로 각광받고 있는 Al2218 합금의 내식성 향상을 연구하였다. 질소이온주입은 DuoPIGatron 이온원을 사용하여 가속전압 100 keV, 조사량 1×10^(l7) ions/㎠~5×10^(17) ions/㎠의 조건으로 행하였으며 Al 합금의 열화를 방지하기 위하여 시편온도를 60℃ 이하로 유지하였다. 질소이온 주입재의 내식성 평가를 위하여 35% NaCl 용액에서 양극분극시험 및 5% NaCl 용액에서 염수분무시험을 행하였다. Auger Electron Spectroscopy와 Transmission Electron Microscopy을 이용하여 표면의 질화물형성 여부를 조사하였으며, Scanning Electron Microscopy을 이용하여 부식된 표면을 관찰하였다. Al2218 합금에 질소이온을 주입한 결과 표면에 미세한 AlN 석출물을 형성하였으며 이러한 질화물형성에 의해 공식(pitting) 발생을 억제하고 부식전류밀도를 감소시켜 내식성이 향상되었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

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