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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1998.2
- 수록면
- 17 - 23 (7page)
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RF magnetron co-sputtering법으로 PFN[Pb(Fe_(0.5)Nb_(0.5))O₃] 박막을 제조한 후 급속 열처리(rapid thermal annealing, RTA)하여 XRD(x-ray diffractometer)를 통한 박막의 상변태 및 전기적 특성에 대하여 연구하였다. SiO₂/Si, ITO/glass, 및 Pt/Ti/SiO₂/Si 기판에 PFN 박막을 증착시켰다. 기판의 변화에 따른 증착된 PFN박막의 조성변화는 관찰할 수 없었다. ITO/glass 기판을 사용한 경우와 SiO₂/Si 기판을 사용하여 증착시킨 PFN 박막의 결정구조를 분석한 결과 ITO/glass 기판에 증착한 시편이 perovskite 상으로의 결정화가 더욱 우세하였다. 이는 SiO₂ 기판의 경우 Pb의 확산에 의해 결정화가 잘 되지 못하기 때문이다. Pt/Ti/SiO₂/Si 기판 위에 증착시킨 PFN 박막의 경우 perovskite 상과 pyrochlore 상이 공존하였다 . Perovskite 상으로의 상변태에 대한 중요한 변수로는 열처리 온도와 Pb의 함량인 것이 확인되었으며, Pb의 함량이 화학양론적 조성비에 비해 5-10% 정도 과량일수록 perovskite 상으로의 상변태 온도가 낮아지고 상전이 정도가 향상되는 것으로 나타났으며, 급속 열처리 후 XRD를 이용한 결정성 분석결과를 통해 결정한 perovskite 상으로의 상전이 최저온도는 500℃였다. Pb/(Fe+Nb)의 조성비가 1.17인 경우의 박막을 질소 분위기 하에서 600℃로 30초간 급속열처리 하였을 때 낮은 누설 전류 값과 1 ㎑에서 88의 유전 상수 값, 2.0 μC/㎠의 잔류 분극 값과 144 ㎸/㎝의 항 전계 값을 얻었다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 분석
4. 결론
감사의 글
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