Simulation of Neutral Flow around Plasma Actuator

Suk Young Jung ,  Chang Soo Ahn ,  Seung Kyu Hong

한국전산유체공학회 학술대회논문집

2006 .05

고주파유도결합에 의해 여기된 물플라즈마로부터 수소생산에서 메탄가스 첨가효과

김대운 ,  김영호 ,  이승헌 외 5명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각

송호영 ,  조수범 ,  이종근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

수치모델을 이용한 ICP-CVD 장치의 증착 균일도 해석

주정훈

한국표면공학회지

2008 .12

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

3차원 소자 제작을 위한 ICP Type Remote PEALD를 이용한 저온(< 300℃) SiO₂ 및 SiON 박막 공정

김대현 ,  박태주

반도체디스플레이기술학회지

2019 .01

ICP system에서 공정가스와 압력에 따른 z축 방향의 이온포화 전류밀도 변화 분석

김동훈 ,  주정훈 ,  김성봉

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

ICP 알고리즘의 회전 오차민감도 ( Error sensitivity of rotation angle in ICP algorithm )

김철민 ,  이병욱 ,  박래홍

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구

김경현 ,  김관용 ,  이효창 외 1명

KEPCO Journal on electric power and energy

2015 .01

($Ar+N_2$)분위기 중에 제작된 Fe-B-Si-N 합금 박막의 연자기적 성질

박지종 ,  김종오

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source

Jin. Seock. Seo ,  Kyung ,  Jun 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Core ICP에 의한 Edge Uniformity Control에 따른 고 균일도 Plasma Source에 관한 연구

남창우

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

ICP 광원의 정격용량 설계 요소와 전기적 의존성

金賢鎰 ,  林涓贊 ,  朴大熙 외 2명

전기학회논문지

2008 .03

안테나에서 페라이트 위치 변화에 따른 전자계 시뮬레이션과 전기적ㆍ광학적 특성

李主熩 ,  梁種璟 ,  李鐘燦 외 3명

전기학회논문지

2008 .05

펄스직류방전과 유도결합방전의 복합에 의한 SCM440강의 이온질화

김윤기

한국표면공학회지

2010 .04

ICP with Scaling for Distal Femur Landmark Estimation

Phan Cong-Bo ,  Seungbum Koo

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .10