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코발트 폴리사이드 게이트 전극 형성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
텅스텐 폴리사이드 전극에 따른 게이트 산화막의 내압 특성 ( Breakdown Characteristics of Gate Oxide with Tungsten Polycide Electrode )
전자공학회논문지-A
1996 .12
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구 ( A Study on the Process Characteristics Approvement of Polycide Based Gate Electrode )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구 ( A Study on the process characteristics of polycide based dual gate oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
SADS 법으로 형성한 코발트 폴리사이드 게이트의 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
W-Polycide Gate Etch 공정에 관한 연구 ( Development of W-Polycide Gate Etch Process )
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
MOS 소자에서 Titanium 폴리사이드 게이트에 의한 산화막 열화 ( Thin Oxide Degradation by Titanium-Polycide Gate in MOS Device )
전자공학회논문지-A
1992 .12
코발트 실리사이드를 도판트 소스로 이용한 폴리사이드 게이트의 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
An Improved Process for the Significant Reduction of Polycide-to-Polycide Contact Resistance
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Ti-polycide gate의 gate oxide 신뢰성의 limitation 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
폴리사이드 형성 조건에 따른 WSix 박막 특성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2003 .09
RTP에 의한 W-Polycide막 특성
전기학회논문지
1991 .11
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향 ( Effect of BF2 on the Formation of Ti-Polycide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Emission Characteristics of Gated Mo-Polycide Field Emitter Arrays
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
코발트 폴리사이드 게이트의 전기적 특성에 관한 연구
한국재료학회지
1999 .01
A STUDY ON THE UNSTABILITY OF CONTACT RESISTANCE IN W(tungsten) POLYCIDE BIT LINE TO W POLYCIDE WORD LINE CONTACT
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Quartz/tungsten polycide 구조에서 발생되는 crack에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
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