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신동원 (포항공과대학 재료.금속공학과) 최철 (포항공과대학 재료.금속공학과) 박찬경 (포항공과대학 재료.금속공학과) 김종철 (현대전자 반도체 연구소)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제2권 제3호
발행연도
1992.1
수록면
213 - 219 (7page)

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$As^{+}$이온을 주입시킨후 열처리 방법을 달리한 Si 표면부 미세구조와 성분분석 및 전기적특성을 조사하였다. 이온주입에 의해 형성되었던 비정질층은 열처리에 의해 결정화 되었으며 열처리방법에 따라 결정화 양상의 차이를 보였다. 또한 주입된 이온의 분포 및 전기저항을 미세구조와 비교한 결과 주입된 이온의 농도가 최대인 깊이에서 최대의 손상이 발견되었으며 열처리 후에도 매우 작은 결함이 존재하였다. 하지만 이러한 작은 결함들은 전기적 성질에 큰 영향을 미치지는 않은 것으로 나타났다.

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