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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김교선 (강원대학교 공과대학 화학공학과)
저널정보
강원대학교 산업기술연구소 산업기술연구 : 강원대학교 산업기술연구소 산업기술연구 : 강원대학교 산업기술연구소 제14권
발행연도
1994.1
수록면
63 - 75 (13page)

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The objective of this research is to analyze the phenomena of negative ion behavior in silane plasma chemical vapor deposition. Based on the plasma chemistry, the model equations for the formation and transport of negative ions were proposed and solved. The evolutions of gaseous species along the reactor were presented for several conditions of process variables such as reactor pressure, total gas flow rate, and electric field. Based on the model results, it is found that : (1) The concentration profiles of positive ions show the sharp peaks at the center of plasma reactor. (2) Most of negative ions are located in bulk plasma region, because the negative ions are excluded from the sheath region by electrostatic repulsion.

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