지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
초록· 키워드
오류제보하기
As the IT industry rapidly progresses, the functions of electronic devices and display devices are integrated with high density, and the model is changed in a short period of time. To implement the integration technology, a uniform micro-pattern implementation technique to drive and control the product is required. The most important technology for the micro pattern generation is the exposure processing technology. Failure to implement the basic pattern in this process cannot satisfy the demands in the manufacturing field. In addition, the conventional exposure method of the mask method cannot cope with the small-scale production of various types of products, and it is not possible to implement a micro-pattern, so an alternative technology must be secured. In this study, the technology to implement the required micro-pattern in semiconductor processing is presented through the photolithography process and plasma etching.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
-
Optimized O2 Plasma Surface Treatment for Uniform Sphere Lithography on Hydrophobic Photoresist Surfaces
전기전자재료학회논문지
2024 .03
-
건식 식각 공정 쿼츠의 제작방식에 따른 부품 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2021 .11
-
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
-
수소 상압플라즈마를 이용하여 조명용 페로브스카이트 박막 식각시 메탈 마스크 크기와 공정 시간에 따른 형상 변화 연구
조명·전기설비학회논문지
2023 .12
-
Use of Hard Mask for Finer (<10 μm) Through Silicon Vias (TSVs) Etching
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2015 .01
-
모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화
한국기계기술학회지
2015 .01
-
Hydrogen-Induced Damage During the Plasma Etching Process
NANO
2017 .01
-
유기 킬레이터 물질의 고밀도 플라즈마를 이용한 구리 박막의 나노미터 스케일 식각
전기전자재료학회논문지
2021 .01
-
실리콘카바이드 플라즈마 에칭 기술 개발
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2019 .05
-
Quantitative Analysis for Plasma Etch Modeling Using Optical Emission Spectroscopy : Prediction of Plasma Etch Responses
Industrial Engineering & Management Systems
2015 .12
-
패터닝한 구리층을 이용한 전해에칭 공정에서의 형상 변화에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2018 .10
-
Feasibility Study of Monitoring of Particle Generation in Plasma Etching Process by Plasma Impedance Measurement
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2023 .02
-
전해에칭 보호 마스크로 활용하기 위한 도금층의 레이저 패터닝
한국생산제조학회지
2018 .02
-
Photolithographic Technology for the Shape Modulation of Micropatterns with Single Photomask
한국생물공학회 학술대회
2021 .04
-
패턴과 패턴의 정렬을 위한 장비설계
한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집
2021 .12
-
반도체 메모리 소자 제조에서 High Aspect Ratio Contact 식각 연구 동향
한국표면공학회지
2024 .06
-
이방성 에칭 첨가제 기술로 제작된 인쇄회로 열교환기의 성능 평가
대한기계학회 춘추학술대회
2022 .11
-
구리 보호층을 이용한 전해에칭에서의 다층구조 제작
한국기계가공학회지
2019 .02
-
플라즈마 물성 참조표준 소개 및 응용
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2024 .10
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0