지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
L- Hydrofulorocarbon Plasma를 이용한 Dielectric 식각 물질 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Etch properties of dielectric materials in C7F14 Inductively Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F8 Capacitively Coupled Plasma
Applied Science and Convergence Technology
2021 .11
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
플라즈마 활성종 측정을 통한 낮은 지구 온난화 지수를 가진 precursor의 SiO2 식각 특성 진단
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Plasma Etching of Parylene and SU-8 Polymer in Capacitively Coupled O₂ Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Low-Global Warming Potential Isomer Plasmas for Silicon Oxide Etching in Dual Frequency Superimposed Capacitively Coupled Plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
0