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탁현우 (성균관대학교) 장준기 (성균관대학교) 성다인 (성균관대학교) 김기현 (성균관대학교) 김두산 (성균관대학교) 김동우 (성균관대학교) 염근영 (성균관대학교)
저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 2020년 한국진공학회 (제58회 동계정기학술대회 초록집)
발행연도
2020.2
수록면
83 - 83 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2020

Nano Pattern 된 Ultra Low-k Dielectric 물질에서의 C₃H₂F6를 이용한 Low Damage 식각 공정 연구
탁현우 ,  성다인 ,  김두산 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2020.08 학술대회자료
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
탁현우 ,  장준기 ,  성다인 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 2020.02 학술대회자료

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#Global Warming Potential(GWP) #L-FC #Ultra Low-k #Capacitively Coupled Plasma Etch

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C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
탁현우 ,  성다인 ,  문룡 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2021 .02

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2020-420-000414704