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Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
c-C5F8 플라즈마를 이용한 차세대 dielectric 물질의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
SiO₂ 원자층 식각에서 인가 전력 공정 윈도우와 플라즈마 활성종 간 상관관계
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Etch properties of dielectric materials in C7F14 Inductively Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Nano Pattern 된 Ultra Low-k Dielectric 물질에서의 C₃H₂F6를 이용한 Low Damage 식각 공정 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각의 SiO2 두께 변화 해석 모델
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C₃H₂F₆ Isomer를 이용한 Dielectric 식각 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
CBr₂F₂ 플라즈마를 이용한 반도체 물질의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C6F6 플라즈마를 이용한 패터닝 공정에서의 첨가 가스(Ar, O2) 에 따른 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Plasma Etching Characteristic of Low-Global Warming Potential C₄H₃F7O Isomers for SiO₂ and Si₃N₄ and Poly-Si Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F8/Ar capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
반도체 공정가스의 지구온난화지수(GWP) 산정방법
한국분석과학회 학술대회
2019 .11
Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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