Plasma Etching Characteristic of Low-Global Warming Potential C₄H₃F₇O Isomers for SiO₂ and Si₃N₄ and Poly-Si Films

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저자정보: Seoeun Kim (Sungkyunkwan University (SKKU)) Yongjae Kim (Sungkyunkwan University (SKKU)) Yebin Lee (Sungkyunkwan University (SKKU)) Heeyeop Chae (Sungkyunkwan University (SKKU))

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#Plasma etching #Selectivity #MMTCE #Perfluorocarbon(PFC) #GWP

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